KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀

簡要描述：KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀通過實時監(jiān)控沉積過程，提供高精度、快速且非侵入式的測量解決方案，適用于多種半導(dǎo)體和電介質(zhì)材料。其主要特點包括提高生產(chǎn)力、低成本、高精度及易用性。該系列產(chǎn)品覆蓋不同厚度和波長范圍，滿足多樣化測量需求。

產(chǎn)品型號：

所屬分類：薄膜厚度測量儀

更新時間：2025-03-10

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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詳情介紹

監(jiān)控薄膜沉積，有力的工具

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀光譜反射率系統(tǒng)能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及電介質(zhì)層的均勻性。

樣品層

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測量儀分子束外延和金屬有機化學(xué)氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導(dǎo)體材料。

各項優(yōu)點:

極大地提高生產(chǎn)力
低成本 —幾個月就能收回成本
A精確 — 測量精度高于 ±1%
快速 — 幾秒鐘完成測量
非侵入式 — 在沉積室以外進行測試
易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件
幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)

型號規(guī)格

型號	厚度范圍	波長范圍
F30	15nm-70μm	380-1050nm
F30-EXR	15nm-250μm	380-1700nm
F30-NIR	100nm-250μm	950-1700nm
F30-UV	3nm-40μm	190-1100nm
F30-UVX	3nm-250μm	190-1700nm
F30-XT	0.2μm-450μm	1440-1690nm