Model 200 紫外掩膜曝光機

簡要描述：Model 200 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造
OAI 系統能夠處理各種常規形狀和不規則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內可提供均勻的紫外線曝光。

產品型號：

所屬分類：Model 200 紫外掩膜曝光機

更新時間：2025-07-04

廠商性質：生產廠家

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Model 200 紫外掩膜曝光機

Model 200 紫外掩膜曝光機

OAI 200 型掩模對準器和紫外曝光系統是一款高性價比的高性能工具，其采用了行業模塊化組件，這使得 OAI 在微機電系統（MEMS）、納米技術和半導體設備行業處于優勢地位。200 型是一款臺式設備，所需潔凈室空間極小。它為研發、中試或小批量生產提供了經濟實惠的選擇。該系統采用創新的氣浮 / 真空吸盤調平系統，能快速、輕柔地對基板進行調平，確保在接觸曝光過程中，光刻掩模與晶圓平行對準且全面均勻接觸。該系統可實現微米級分辨率和對準精度。對準模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤，無需工具重新配置，即可使用多種基板和掩模。對準模塊集成了用于 X、Y 和 θ 軸的千分尺。200 型對準器可配備多種對準光學器件，包括背面紅外（IR）對準器件。紅外照明真空吸盤可配置用于整片晶圓或晶圓碎片的對準。OAI 200 型可配置 OAI 納米壓印模塊，使其成為市面上低成本的納米壓印（NIL）工具。OAI 還提供一種模塊，專為使用液態光聚合物快速原型制作或生產微流控器件而設計。

200 型配備了可靠的 OAI 光源，使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈，可提供近紫外或深紫外的準直紫外光。雙傳感器光學反饋回路與恒定強度控制器相連，將曝光強度控制在所需強度的 ±2% 以內。紫外波長的更換快速便捷。200 型是適用于任何入門級掩模對準和紫外曝光應用的高靈活性、經濟型解決方案。

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