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Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。*的反應器設計可以在在極低的功率生產具有優異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系統可以滿足實驗室和中試生產環境中的所有安全，設施和工藝標準要求。

PECVD沉積可選配一個三極管（Triode）或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創建高密度等離子，從而控制薄膜應力。